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北京惠源三达水处理设备有限公司

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北北京惠源三达纯水系统主要包括工业纯水设备、医用纯化水设备、去离子纯水设备、实验室超纯水机、纯净水设备等出水水质稳定,设备性价比高,电话13910960960
详细企业介绍
愿景:成为中国最专业的水处理解决方案服务商 使命:致力于膜分离创新技术开发 更详细
  • 行业:水厂、水供应
  • 地址:北京大兴区黄村镇前辛庄村西森淼园三达科技
  • 电话:13910960960
  • 传真:010-88112995
  • 联系人:路经理
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惠源三达水处理设备有限公司在全国各地展开大型工业纯水工程,直饮水工程,水厂工程。
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膜技术在电子工业纯水制造中的应用

字体大小: - - qq1042458081   发表于 12-10-15 15:14     阅读(923)   评论(0)     分类:技术文章
一、纯水在电子元器件生产中的作用
    纯水在电子工业主要是电子元器件生产中的重要作用日益突出,纯水水质已成为影响电子元器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一,水质要求也越来越高。在电子元器件生产中,高纯水主要用作清洗用水及用来配制各种溶液、浆料,不同的电子元器件生产中纯水的用途及对水质的要求也不同。
    在电解电容器生产中,铝箔及工作件的清洗需用纯水,如水中含有氯离子,电容器就会漏电。在电子管生产中,电子管阴极涂敷碳酸盐,如其中混入杂质,就会影响电子的发射,进而影响电子管的放大性能及寿命,因此其配液要使用纯水。在显像管和阴极射线管生产中,其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质,是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成,其配制需用纯水,如纯水中含铜在8ppb以上,就会引起发光变色;含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪光跳跃;含有机物胶体、微粒、细菌等,就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力,并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中,玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水,每生产一个显像管需用纯水80kg[1]。液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液,如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质,就会使液晶显示电路发生故障,影响液晶屏质量,导致废、次品。显像管、液晶显示器生产对纯水水质的要求见表1。
    表1显像管、液晶显示器用纯水水质
 



项目单位


电阻率

MΩ·cm
(25t)


细菌

个/ml


微粒

个/ml


TOC

mg/L


Na+

μg/L


K+

μg/L


Cu

μg/L


Fe

μg/L


Zn

μg/L


黑白显像管

彩色显像管

液晶显示器


≥5

≥5

≥5 


≤5

≤1

≤1


≤10(Φ>0.5μ)

≤10(Φ>1μ)

≤10(Φ>1μ)


≤0.5

≤0.5

≤1


≤10

≤10

≤10


≤10

≤10

≤10


≤8

≤10

≤10


≤10

≤10

≤10


≤10

≤10

≤10

    在晶体管、集成电路生产中,纯水主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制,硅片氧化的水汽源,部分设备的冷却水,配制电镀液等。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水清洗硅片,水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良,重金属(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化,Ⅴ族元素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化[2],水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20-50%)会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏[3],水中的颗粒(包括细菌)如吸附在硅片表面,就会引起电路短路或特性变差。集成电路生产对纯水水质的要求见表2。
 
    表2集成电路(DRAM)对纯水水质的要求[4][5][6]

 


集成电路(DRAM)集成度

16K

64K

256K

1M

4M

16M

相邻线距(μm)

4

2.2

1.8

1.2

0.8

0.5

微粒

直径(μm)

0.4

0.2

0.2

0.1

0.08

0.05
个数(PCS/ml)

<100

<100

<20

<20

<10

<10

细菌(CFU/100ML)

<100

<50

<10

<5

<1

<0.5

电阻率(μs/cm,25℃)

>16

>17

>17.5

>18

>18

>18.2

TOC(ppb)

<1000

<500

<100

<50

<30

<10

DO(ppb)

<500

<200

<100

<80

<50

<10

Na+(ppb)

<1

<1

<0.8

<0.5

<0.1

<0.1

    二、膜技术在纯水制造中的应用
 
    纯水制造中应用的膜技术主要有电渗析(ED)、反渗透(RO)、纳滤(NF)、超滤(UF)、微滤(MF),其工作原理、作用等见表3。
 
    表3纯水制造中常用的膜技术


膜组件名称
 


ED


RO


NF


UF


MF


微孔孔径

 


5-50埃


15-85埃


50-1000埃(1μm)


0.03-100μm


工作原理


离子选择透过性

1.优先吸附-毛细管理论
2.氢链理论
3.扩散理论
 


同左

滤膜筛滤作用
 


同左


作用


去除无机盐离子


    去除无机盐离子,以及有机物、微生物、胶体、热源、病毒等


    去除二价、三价离子,M>100的有机物,以及微生物、胶体、热源、病毒等


    去除悬浊物、胶体以及M>6000的有机物


去除悬浊物


组件形式


膜堆式


    大多为卷式,少量为中空纤维


同左


    大多为中空纤维,少量为卷式


    摺迭滤筒式


工作压力(Mpa)


0.03-0.3


1-4


0.5-1.5


0.1-0.5


0.05-0.5


水回收率(%)


50-80


50-75


50-85


90-95


100


使用寿命(年)


3-8


3-5


3-5


3-5


3-6个月


水站位置


除盐工序


除盐工序


1.除盐工序

2.RO前的软化


    大多为纯水站终端精处理,少数为RO前的预处理


1.RO、NF、UF前的保安过滤(3-10μm)

2.离子交换后滤除树脂碎片(1μm)

3.UV后滤除细菌死体(0.2或 0.45μm)

4.纯水站终端过滤(0.03-0.45μm)



 
    与传统的水处理技术相比,膜技术具有工艺简单、操作方便、易于自动控制、能耗小、无污染、去除杂质效率高、运行成本低等优点,特别是几种膜技术的配合使用,再辅之以其他水处理工艺,如石英砂过滤、活性炭吸附、脱气、离子交换、UV杀菌等,为去除水中的各种杂质,满足日益发展的电子工业对高纯水的需要,提供了有效而可靠的手段,而且也只有应用了多种膜技术,才能生产出合格、稳定的高纯水,才能生产出大规模、超大规模、甚大规模集成电路(LSI、VLSI、ULSI),从而使计算机、雷达、通讯、自动控制等现代电子工业的发展和应用得以实现。值得一提的是:当原水的含盐量大于400mg/L时,纯水制造的除盐工序采用RO-离子交换工艺后,比早先单用离子交换可节约酸、碱90%左右,使离子交换柱的周期产水量提高10倍左右[7],事实证明,可以降低纯水制造的运行费用和制水成本,可以减少工人的劳动强度,可以减少对环境的污染,并可使纯水水质得到提高并长期稳定。据统计,在我国电子工业引进的纯水制造系统中,有RO的约占系统总数的90%,有UF的约占20%,有MF的几乎为100%[8],而ED在我国国产的纯水系统特别是早期投产的纯水系统,以及为数众多的对纯水水质要求不高的一般电子元器件(如电阻、电容、黑白显像管、电子管等)制造厂的纯水系统中占有相当的比例。
    三、微电子工厂纯水站使用膜技术实况
    现以某微电子工厂中的某一纯水站使用膜技术的实况,说明膜技术在电子工业纯水制造中的应用。其纯水制造系统工艺流程见图1。
    1.前级UF
    前级UF是用于去除水中的悬浊物、胶体及有机物,降低水的SDI值,确保RO的安全运行。前级UF有5组,每组45根组件,共225根组件,进水280m3/h,透过水250m3/h,浓缩水排放,回收率约90%。UF组件为美国Romicon公司生产,型号HF-BZ-20-PM80,组件直径5in,长43in,内压式中空纤维膜,纤维直径20mil(0.51mm),共有2940根纤维,膜面积132ft2,膜材料为PS(聚砜),截留分子量8万。UF前采用5μm保安过滤器。
    2.一级RO
    水中加入还原剂Na2SO3(加药量为水中余氯值的1.8倍)以防止余氯氧化腐蚀RO膜,加入防垢剂(NaPO3)6(加药量为5ppm)以防止CaCO3、CaSO4等在RO膜上结垢,再经5μm保安过滤器后由高压泵打进一级RO。一级RO有4组,均为二段。其中三组为每组8根膜容器,呈(5+3)排列,第4组为11根膜容器,呈(8+3)排列,膜容器由FRP(玻璃钢)制成,每根内装6个RO元件,总共为210个RO元件,进水250m3/h,透过水188m3/h,浓缩水排放,回收率为75%,脱盐率>90%(初始脱盐率>99%),操作压力1.55Mpa。RO元件为美国HYDRANAUTICS(海德能)公司生产,型号CPA3。元件直径8in,长40in,卷式膜,膜面积400ft2,膜材料为芳香聚酰胺复合膜,元件脱盐率≥99.5%。
    3.二级RO
    一级RO水箱出水中一部分进入A系统,先加NaOH(CP级)调节pH为8.2-8.6,使水中CO2生成HCO3-,被二级RO除去,以减轻混床离子交换的负担,采用二级RO可以使混床再生周期延长一倍,减少再生酸碱耗量,并可进一步去除TOC和胶体物质。二级RO前采用3μm保安过滤器,二级RO为一组三段,共10根膜容器,按(6+3+1)排列,每根容器内装6只RO元件,共60只RO元件,进水70m3/h,出水62m3/h,浓水排至超滤水箱,回收率为90%,脱盐率>70%(初始脱盐率>80%),RO元件的生产厂、型号与一级RO相同。
    4.后级UF
    后级UF是用于去除水中的微粒、微生物、胶体、有机物等的终端过滤设备。
    A系统后级UF为3组,每组18支,共54支组件,进水92m3/h,出水90m3/h,浓水排至一级RO水箱,回收率约98%。UF组件为美国Romicon公司生产,型号HF-132-20-PM10,组件直径5in,长43in,内压式中空纤维膜,纤维直径20mil(0.51mm),共有2940根纤维,膜面积132ft2,膜材料为PS(聚砜),截留分子量1万。
    B系统后级UF为8组,每组9支,共72支组件,进水168m3/h,出水164m3/h,回收率约98%,UF组件制造厂及型号与A系统后级UF相同。
    C系统后级UF有3支组件,进水4m3/h,出水3.9m3/h,回收率约98%,UF元件为美国YDRANAUTICS公司生产,型号4040-FTV-2120,组件直径3.94in,长40in,卷式膜,膜面积55ft2,膜材料为聚烯烃,截留分子量5万。
    5.微滤
    本系统的微滤可分为三类,第一类为前级UF、RO前的保安过滤器,用于去除水中的悬浊物微粒,降低水的SDI值,滤芯为PP(聚丙烯)膜摺迭式滤芯,孔径为5μm或3μm。第二类在离子交换后,用于滤除离子交换树脂碎片,滤芯为PP膜摺迭式滤芯,孔径为1μm。第三类在UV杀菌器后,用于滤除微生物尸体,滤芯为N-6(尼龙6)膜摺迭式滤芯,孔径为0.45μm或0.2μm。

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